Радиоэлектроника, компьютеры, периферийные устройства > Вторично-ионная масса спектрометрия
Вторично-ионная масса спектрометрияСтраница: 1/13
о поверхности 10
Установки, позволяющие получать сведения о распределении 11
элемента по поверхности, со сканирующим ионным зондом
Установки с прямым изображением 11
Порог чувствительности 12
Анализ следов элементов 14
Ионное изображение 16
Требования к первичному ионному пучку 17
Масс-спектрометрический анализ нейтральных 18
распыленных частиц
Количественный анализ 19
Глубинные профили концентрации элементов 22
Приборные факторы, влияющие на разрешение 23
по глубине при измерении профилей концентрации
Влияние ионно-матричных эффектов на разрешение 25
по глубине при измерении пр
Название: Вторично-ионная масса спектрометрия Дата публикации: 2004-09-11 |